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手机摄像头模组清洗机CMC-800
CMC-800是手机摄像头模组专业清洗机，用于手机摄像头类产品，如wafer，CMOS, Holder等表面微尘清洗。

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手机摄像头模组清洗机CMC-800

详情说明

产品介绍

CMC-800是手机摄像头模组专业清洗机，用于手机摄像头类产品，如wafer，CMOS, Holder等表面微尘清洗。

产品特点

1、摄像头类模组类产品表面粉尘，杂质专用清洗机器；
2、镜面不锈钢一体化封闭机身，对工作环境无污染，适合无尘车间使用要求；
3、可更换清洗盘清洗多种产品，清洗盘按产品定做；
4、PLC自动控制，操作方便快捷；
5、透明防爆前门，安全作业，便于观察；
6、全系统仪表显示，随时监控清洗状况；
7、采用二流体清洗，清洗精度高，对产品零损伤，纯水消耗量极小；
8、旋转式喷杆，避免二次污染产品；
9.配备静电消除装置、腔壁加热装置，辅助清洗达到最佳效果；
10、配备2级空气过滤系统，压缩空气符合ISO8573.1标准；
11、机身紧凑，占用面积小；
12、完全使用超纯水清洗，符合RoHS标准。

产品规格

序号	项目	CMC-800规格
1	设备外观尺寸	880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H）
2	清洗盘规格	定制（清洗盘直径＜ø550mm)
3	清洗方式	二流体清洗
4	干燥方式	高速离心甩干
5	电源供应	AC380V 50HZ
6	总功率	7KW
7	耗电量	清洗时: 3.5kw/h
8	传动马力	3HP
9	环境过滤方式	0.3μm；99.999%
10	空气过滤方式	1μm×1；0.01μm×1
11	离心转速	100-1500RPM
12	纯水消耗量	0-7L/Min
13	气体消耗量	10-30m³/H
14	清洗压力	液体压力：3-8Kgf/cm²，空气压力：0.2-0.5Mpa
15	DI水供应	流量：＞7LPM 电阻率：＞17MΩ
16	气源供应	压力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m³/H（洁净度符合清洗要求）
17	纯水入口径	ø12mm软管或PT1/2″内螺纹
18	气源入口径	ø12mm气管
19	排水出口径	PT 1″内螺纹
20	排气口口径	4″×2（需加强抽风,风速大于3m/sec）
21	机器净重	450KG